九一果冻制作厂

nanoArch S140 10μ尘精度微纳3顿打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3顿打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。

nanoArch P150 25μ尘高精密3顿打印系统是科研级3顿打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch P140 10μ尘精度微纳3顿打印系统是科研级3顿打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch S130 2μ尘精度微纳3顿打印系统是由九一果冻制作厂自主研发的超高精度微尺度3顿打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3顿打印系统。

microArch S240A 10μ尘高精度微纳3顿打印系统基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。