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microArch S240A 10μm高精度微纳3顿打印系统基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
更新时间：2024-09-18
产物型号：microArch S240A
浏览量：5313
微纳3顿打印microArch® S240A基于PμSL技术，具备10微米打印精度，支持光敏树脂和陶瓷浆料打印，专注于微尺度结构的稳定成型。系统搭载自动调平系统，集平台自动调平，绷膜自动调平和滚刀自动调节三大功能，使工艺参数设置、液面调平、流平时间等步骤实现全自动作业模式。
更新时间：2025-07-31产物型号：microArch® S240A浏览量：154
摩方高精度光固化3诲打印机microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立体光刻技术（PμSL）构建。全自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，打印效率提升近50倍。
更新时间：2025-08-01产物型号：microArch® S230A浏览量：886
高精度微纳3顿打印系统nanoArch S130 ，光学精度2微米，支持光敏树脂材料打印。系统基于九一果冻制作厂创新面投影微立体光刻技术（PμSL），并融入了摩方自主开发的多项技术。
更新时间：2025-07-30产物型号：nanoArch S130浏览量：2564
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