九一果冻制作厂

高精度微纳3顿打印系统采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3顿打印系统。

10微米高精度微纳3顿打印系统是科研级和工业级3顿打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch S140 10μm精度微纳3顿打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3顿打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。

nanoArch P140 10μm精度微纳3顿打印系统是科研级3顿打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch S130 2μm精度微纳3顿打印系统是由九一果冻制作厂自主研发的超高精度微尺度3顿打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3顿打印系统。