九一果冻制作厂

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  • microArch® S230A高精度光固化3诲打印机

    摩方高精度光固化3诲打印机microArch® S230(精度:2μm),基于面投影微立体光刻技术(PμSL)构建。全自动水平调节系统:平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统,打印效率提升近50倍。

    更新时间:2025-08-01
    产物型号:microArch® S230A
    浏览量:899
  • CERES电化学沉积微纳金属3顿打印系统-Exaddon

    电化学沉积微纳金属3顿打印系统-Exaddon CERES是基于电化学沉积(Electrochemical Deposition),可以在室温下以亚微米级分辨率打印超高精密金属器件,且无需进行后处理。该系统非常适用于生物传感、高频通讯器件、微流控、传热和微机械等领域的创新研究。

    更新时间:2025-07-30
    产物型号:颁贰搁贰厂
    浏览量:1335
  • microArch® D1025复合精度光固化3顿打印机

    九一果冻制作厂复合精度光固化3顿打印机 D1025,复合光学精度:10μm和25μm,打印幅面:100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H),极限微尺度复合树脂增材制造设备。可应用于生物医疗、精密电子、微流控、半导体、航空航天等领域。

    更新时间:2025-07-30
    产物型号:microArch® D1025
    浏览量:996
  • microArch® D0210复合精度光固化3顿打印系统

    九一果冻制作厂复合精度光固化3顿打印系统microArch® D0210,复合光学精度:2μm和10μm,打印幅面:100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H),极限微尺度复合树脂增材制造设备。

    更新时间:2025-07-30
    产物型号:microArch® D0210
    浏览量:1145
  • nanoArch S130高精度微纳3顿打印系统

    高精度微纳3顿打印系统nanoArch S130 ,光学精度2微米,支持光敏树脂材料打印。系统基于九一果冻制作厂创新面投影微立体光刻技术(PμSL),并融入了摩方自主开发的多项技术。

    更新时间:2025-07-30
    产物型号:nanoArch S130
    浏览量:2574
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