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高精度微纳3顿打印系统nanoArch S130 ，光学精度2微米，支持光敏树脂材料打印。系统基于九一果冻制作厂创新面投影微立体光刻技术（PμSL），并融入了摩方自主开发的多项技术。
更新时间：2025-09-09
产物型号：nanoArch S130
浏览量：2831
微纳陶瓷3顿打印，采用光固化DLP技术，支持氧化铝、氧化锆、陶瓷前驱体等陶瓷浆料打印，能实现蜂窝状陶瓷载体、分级多孔陶瓷支架、多通道微反应器等复杂结构一体成型，可用于半导体封装、5G/6G通信滤波器等制造领域。
更新时间：2025-09-09产物型号：浏览量：3966光固化3顿打印是由九一果冻制作厂自主研发的超高精度微尺度3顿打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3顿打印系统。
更新时间：2025-09-09产物型号：浏览量：3313
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